Сипаттама
Біздің компания графит, керамика және басқа да материалдардың бетіне CVD әдісімен SiC жабынымен жабу процесін қамтамасыз етеді, осылайша көміртегі мен кремнийі бар арнайы газдар жоғары температурада әрекеттеседі, жоғары таза SiC молекулаларын, қапталған материалдардың бетіне тұндырылған молекулаларды, SIC қорғаныс қабатын құрайды.
Негізгі мүмкіндіктер
1. Жоғары температурадағы тотығуға төзімділік: температура 1600 C дейін жоғары болған кезде тотығуға төзімділік әлі де өте жақсы.
2. Жоғары тазалық: жоғары температурада хлорлау жағдайында химиялық бу тұндыру арқылы жасалған.
3. Эрозияға төзімділік: жоғары қаттылық, ықшам беті, ұсақ бөлшектер.
4. Коррозияға төзімділік: қышқыл, сілті, тұз және органикалық реагенттер.
CVD-SIC жабынының негізгі сипаттамалары
SiC-CVD қасиеттері | ||
Кристалл құрылымы | FCC β фазасы | |
Тығыздығы | г/см³ | 3.21 |
Қаттылық | Викерс қаттылығы | 2500 |
Астық мөлшері | мкм | 2~10 |
Химиялық тазалық | % | 99,99995 |
Жылу сыйымдылығы | Дж·кг-1 ·К-1 | 640 |
Сублимация температурасы | ℃ | 2700 |
Фелексальды күш | МПа (RT 4-нүкте) | 415 |
Жас модулі | Gpa (4pt иілу, 1300℃) | 430 |
Термиялық кеңею (CTE) | 10-6К-1 | 4.5 |
Жылу өткізгіштік | (Вт/мК) | 300 |





-
Кремний карбидті жабыны бар графит қабылдағыш...
-
Жарықдиодты қиыршық кремний карбиді подшипник науасы, ICP науасы ...
-
MOCVD үшін кремний карбидімен қапталған диск
-
Жоғары сапалы кремнийлі карбидпен қапталған жылыту элементтері...
-
SiC қапталған эпитаксиалды реактордың бөшкелері
-
SiC қапталған бөшкеге арналған сенсор