Кремний карбиді жабынына кіріспе
Біздің химиялық буларды тұндыру (CVD) кремний карбиді (SiC) жабынымыз жоғары берік және тозуға төзімді қабат болып табылады, ол жоғары коррозия мен термиялық төзімділікті қажет ететін орталар үшін өте қолайлы.Кремний карбиді жабыныжоғары өнімділік сипаттамаларын ұсына отырып, CVD процесі арқылы әртүрлі субстраттарға жұқа қабаттарда қолданылады.
Негізгі мүмкіндіктер
● -Көмелілік тазалығы: Өте таза құрамымен мақтанады99,99995%, біздіңSiC жабынысезімтал жартылай өткізгіш операцияларда ластану қаупін азайтады.
● -Жоғарғы қарсылық: Тозуға да, коррозияға да тамаша төзімділік көрсетеді, бұл оны химиялық және плазмалық параметрлерді қиындату үшін тамаша етеді.
● -Жоғары жылуөткізгіштік: Керемет термиялық қасиеттерінің арқасында төтенше температура кезінде сенімді өнімділікті қамтамасыз етеді.
● -Өлшемдік тұрақтылық: Төмен термиялық кеңею коэффициентінің арқасында температураның кең диапазонында құрылымдық тұтастықты сақтайды.
● -Жақсартылған қаттылық: Қаттылық рейтингімен40 ГПа, біздің SiC жабынымыз айтарлықтай соққыға және тозуға төзімді.
● -Тегіс бетті әрлеу: Бөлшектердің пайда болуын азайтып, жұмыс тиімділігін арттыра отырып, айна тәрізді әрлеуді қамтамасыз етеді.
Қолданбалар
SiC жабындарыжартылай өткізгіш өндірісінің әртүрлі кезеңдерінде пайдаланылады, соның ішінде:
● -LED чипі
● -Полисиликон өндірісі
● -Жартылай өткізгіш кристалдардың өсуі
● -Кремний және SiC эпитаксисі
● -Термиялық тотығу және диффузия (TO&D)
Біз жоғары берік изостатикалық графиттен, көміртекті талшықпен күшейтілген көміртектен және 4Н қайта кристалданған кремний карбидінен жасалған SiC қапталған компоненттерді жеткіземіз, олар сұйық қабаттағы реакторларға арналған.STC-TCS түрлендіргіштері, CZ бірлік шағылыстырғыштары, SiC пластинкалы қайық, SiCwafer қалақшасы, SiC пластинка түтігі және PECVD, кремний эпитаксисі, MOCVD процестерінде қолданылатын вафли тасымалдаушылары.
Артықшылықтары
● -Ұзартылған қызмет мерзімі: Жабдықтың тоқтап тұруын және техникалық қызмет көрсету шығындарын айтарлықтай азайтып, жалпы өндіріс тиімділігін арттырады.
● -Жақсартылған сапа: Жартылай өткізгішті өңдеуге қажетті жоғары тазалықтағы беттерге қол жеткізеді, осылайша өнім сапасын арттырады.
● -Тиімділікті арттыру: Термиялық және CVD процестерін оңтайландырады, нәтижесінде цикл уақыттары қысқарады және өнімділік жоғарылайды.
Техникалық сипаттамалар
● -Құрылым: FCC β фазалық поликристалды, негізінен (111) бағытталған
● -Тығыздық: 3,21 г/см³
● -Қаттылық: 2500 Vickes қаттылығы (500 г жүктеме)
● -Сынуға төзімділік: 3,0 МПа·м1/2
● -Термиялық кеңею коэффициенті (100–600 °C): 4,3 x 10-6k-1
● -Эластикалық модуль(1300℃):435 GPa
● -Типтік пленка қалыңдығы:100 мкм
● -Беттің кедір-бұдырлығы:2-10 мкм
Тазалық деректері (жарқырау разрядының масс-спектроскопиясы арқылы өлшенеді)
Элемент | ppm | Элемент | ppm |
Li | < 0,001 | Cu | < 0,01 |
Be | < 0,001 | Zn | < 0,05 |
Әл | < 0,04 | Ga | < 0,01 |
P | < 0,01 | Ge | < 0,05 |
S | < 0,04 | As | < 0,005 |
K | < 0,05 | In | < 0,01 |
Ca | < 0,05 | Sn | < 0,01 |
Ti | < 0,005 | Sb | < 0,01 |
V | < 0,001 | W | < 0,05 |
Cr | < 0,05 | Te | < 0,01 |
Mn | < 0,005 | Pb | < 0,01 |
Fe | < 0,05 | Bi | < 0,05 |
Ni | < 0,01 |
|